Ausstattung

Auger-Spektroskop

Meßmethoden:

• Raster-Augermikroskopie
  Laterale Auflösungen: ~ 10 nm im Augermodus
• Auger-Tiefenprofiluntersuchungen mit 1 nm Tiefenauflösung
• Bruchkantenuntersuchungen
• REM < 5 nm in der Sekundärelektronenmikroskopie
• XPS

Link zur Auger-Nanosonde

Elektronenemissionsmikroskopie

• zur direkten (nicht rasternden) Abbildung von Oberflächen durch Anregung mit langsamen Elektronen (LEEM), UV-Licht (PEEM) und metastabilen He-Atomen (MIEEM)
• zur direkten (nicht rasternden) Abbildung von Oberflächen durch Anregung mit Femtosekunden-Laserpulsen (Ein-Photonen- und Zwei-Photonen-Photoelektronen- Emissionsmikroskopie: PEEM)

Rasterkraftmikroskopie

• (Digital Instruments Modell Dimension 3100) mit der Möglichkeit der Tunnelstrom-Rasterkraftmikroskopie

Femtosekunden-Lasersystem

• Femtosekunden-Ti:Saphir-Lasersystem (Abstimmbereich 700-1000 nm, 1 W @ 800 nm, 80 fs. Oszillator/Pumplaser: Spectra Physics Tsunami/Millennia
• Femtosekunden-Ti:Saphir-Verstärkersystem (800 nm, 1000 Hz, 2 mJ, 90 fs. Verstärker/Pumplaser: Positive Light Spitfire/Evolution)
• Optisch-parametrischer Verstärker für Femtosekundenpulse (Abstimmbereich 470-2600 nm, 1000 Hz, 150 µJ @ 710 nm, ~100 fs, Modell Light Conversion Topas)

Pikosekunden-Lasersystem

• Pikosekunden-Nd:YAG-Lasersystem (1,064 µm, 500 Hz, 9 mJ, 25 ps, Oszillator: Lightwave Electronics, Verstärker: Eigenbau mit diodenlasergepumpten Nd:YAG-Verstärkerköpfen vom ILT Aachen)
• Optisch-parametrischer Verstärker für Pikosekunden-Infrarot-Pulse(Abstimmbereich 1,2-8,3 µm, 500 Hz, 50 µJ @ 5 µm, 25 ps, Eigenbau mit BBO- und AgGaS₂-Kristallen)

Rastertunnelmikroskop

• (Molecular Imaging Modell Picoscan 2100), Mikroskopie von Elektrodenoberflächen unter elektrochemischen Bedingungen mit Potentialkontrolle (Scanbereich 2µm x 2µm lateral und 0,7µm vertikal; Tunnelströme von 1pA-100nA)

Millipore Gradient A10 Reinstwasseranlage

• (R>18MΩcm, Total Oxidizable Carbon (TOC) < 4ppb)