Dienstleistungen

Topographische und ortsaufgelöste chemische Charakterisierung von Oberflächen

• Raster-Augermikroskopie zur ortsaufgelösten Charakterisierung der chemischen Zusammensetzung von Oberflächen mit den Möglichkeiten der Abbildung von Sekundärelektronen und der Tiefenprofilanalyse. Die Messungen erfordern Vakuumbedingungen. Laterale Auflösungen: ~ 1 µm im Augermodus und < 100 nm in der Sekundärelektronenmikroskopie


• Rasterkraftmikroskopie zur topographischen Charakterisierung von Oberflächen. Auflösung: ~ 1 nm lateral und < 1 nm vertikal


• Tunnelstrom-Rasterkraftmikroskopie zur ortsaufgelösten elektrischen und topographischen Charakterisierung dünner dielektrischer Schichten.
  Auflösung: ~ 1 nm lateral und < 1 nm vertikal


• Elektronenemissionsmikroskopie von Oberflächen (direkt abbildendes, nicht rasterndes Verfahren). Durch Abbildung niederenergetischer Elektronen aus den äußersten Atomlagen der Oberfläche ist die Methode wesentlich oberflächenempfindlicher als Sekundärelektronenmikroskopie. Chemischer Kontrast ist möglich. Geeignet zur Untersuchung von dynamischen Oberflächenprozessen. Die Messungen erfordern Vakuumbedingungen. Laterale Auflösung zwischen 15 und 100 nm, abhängig von Probe und Anregungsart

Diskutieren Sie Ihre Anwendung mit uns, damit wir die für Sie optimale Untersuchungsmethode finden.

Ansprechpartner

Dr. Klaus Stallberg
Raum 318
Tel.: +49 5323 72-3615
Fax: +49 5323 72-3600
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