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Ausstattung
Auger-Spektroskop
Meßmethoden:
- Raster-Augermikroskopie
Laterale Auflösungen: ~ 10 nm im Augermodus - Auger-Tiefenprofiluntersuchungen mit 1 nm Tiefenauflösung
- Bruchkantenuntersuchungen
- REM < 5 nm in der Sekundärelektronenmikroskopie
- XPS
http://www.iept.tu-clausthal.de/nanosam
Elektronenemissionsmikroskopie
- zur direkten (nicht rasternden) Abbildung von Oberflächen durch Anregung mit langsamen Elektronen (LEEM), UV-Licht (PEEM) und metastabilen He-Atomen (MIEEM)
- zur direkten (nicht rasternden) Abbildung von Oberflächen durch Anregung mit Femtosekunden-Laserpulsen (Ein-Photonen- und Zwei-Photonen-Photoelektronen- Emissionsmikroskopie: PEEM)
Rasterkraftmikroskopie
- (Digital Instruments Modell Dimension 3100) mit der Möglichkeit der Tunnelstrom-Rasterkraftmikroskopie
Femtosekunden-Lasersystem
- Femtosekunden-Ti:Saphir-Lasersystem (Abstimmbereich 700-1000 nm, 1 W @ 800 nm, 80 fs. Oszillator/Pumplaser: Spectra Physics Tsunami/Millennia
- Femtosekunden-Ti:Saphir-Verstärkersystem (800 nm, 1000 Hz, 2 mJ, 90 fs. Verstärker/Pumplaser: Positive Light Spitfire/Evolution)
- Optisch-parametrischer Verstärker für Femtosekundenpulse (Abstimmbereich 470-2600 nm, 1000 Hz, 150 µJ @ 710 nm, ~100 fs, Modell Light Conversion Topas)
Pikosekunden-Lasersystem
- Pikosekunden-Nd:YAG-Lasersystem (1,064 µm, 500 Hz, 9 mJ, 25 ps, Oszillator: Lightwave Electronics, Verstärker: Eigenbau mit diodenlasergepumpten Nd:YAG-Verstärkerköpfen vom ILT Aachen)
- Optisch-parametrischer Verstärker für Pikosekunden-Infrarot-Pulse(Abstimmbereich 1,2-8,3 µm, 500 Hz, 50 µJ @ 5 µm, 25 ps, Eigenbau mit BBO- und AgGaS2-Kristallen)
Rastertunnelmikroskop
- (Molecular Imaging Modell Picoscan 2100), Mikroskopie von Elektrodenoberflächen unter elektrochemischen Bedingungen mit Potentialkontrolle (Scanbereich 2µm x 2µm lateral und 0,7µm vertikal; Tunnelströme von 1pA-100nA)
Millipore Gradient A10 Reinstwasseranlage
- (R>18MΩcm, Total Oxidizable Carbon (TOC) < 4ppb)